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HGD032N04A
IC

TO-252

可供量大可议

HGD032N04A

HGD032N04A是硅N沟道增强型垂直双扩散金属氧化物半导体场效应晶体管(VDMOSFET), 采用高密度沟槽技术制造, 该技术可降低导通损耗、改善开关性能并提高雪崩能量。 此器件适用于作为负载开关和脉冲宽度调制(PWM)应用。 其封装形式为TO - 252, 符合RoHS标准

品牌

CRMICRO

封装

TO-252

库存

2,209

货期

现货

HGD032N04A参数

封装TO-252
品牌CRMICRO(华润微)
MOQ / SPQ1 / 1
分类场效应管(MOSFET)
库存2209

HGD032N04A概述

HGD032N04A是硅N沟道增强型垂直双扩散金属氧化物半导体场效应晶体管(VDMOSFET), 采用高密度沟槽技术制造, 该技术可降低导通损耗、改善开关性能并提高雪崩能量。 此器件适用于作为负载开关和脉冲宽度调制(PWM)应用。 其封装形式为TO - 252, 符合RoHS标准

HGD032N04A特性

暂无产品特性。

HGD032N04A应用领域

暂无应用领域。

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